爱安德介绍CVD设备的类型
2024-08-30 19:40:42
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爱安德介绍CVD设备的类型
CVD设备有多种类型，包括热CVD设备、等离子体CVD设备和光学CVD设备。
1. 热CVD设备
热CVD设备是将原料气体输送到容器内，升高基板或容器的温度，使原料气体在基板上发生化学反应的装置。有两种方法：仅加热基材和加热容器内部。
2. 等离子CVD设备
等离子体CVD设备是将原料气体转变为等离子体状态并沉积在基板上的装置。由于可以在比热CVD设备更低的基板温度下形成薄膜，因此有利于制造需要高精度尺寸的半导体。
3、光学CVD设备
光学CVD设备是使用放电管或激光对原料气体照射光而引起化学反应的装置。根据光的类型，光的使用方式不同，例如促进化学反应或破坏分子之间的键。这种方法的一个特点是它可以在比其他CVD设备低得多的温度下生产薄膜。