爱安德介绍ALD设备的应用
2024-08-30 19:42:01
webAdmin
爱安德介绍ALD设备的应用
ALD设备常用于半导体生产工艺、FPD生产工艺等。近年来，这项技术已成为DRAM生产中不可或缺的一部分。以下是使用ALD装置形成的薄膜的示例。
1.栅极氧化膜
形成FET等晶体管时所需的具有高介电常数的薄膜。主要采用Al2O3、ZrO2等氧化膜。
2.阻隔膜
有时将通过ALD形成的氮化膜称为阻挡膜。用于防止Cu布线材料等过渡金属的扩散，防止布线周围的金属污染和绝缘劣化。
3. 防传播膜
防止水分渗透到树脂基材和有机EL面板的薄膜。通过防止异物渗透，有助于保持质量和延长使用寿命。
如上所述，它多用于工业，但也可以应用于生物医学行业。典型的例子包括人造关节和人造骨骼，其中在人造金属骨骼上形成生物相容性膜以防止排斥。它还用于包裹药物以调整其功效。