爱安德介绍CVD设备原理
2024-08-30 19:40:23
webAdmin
爱安德介绍CVD设备原理
CVD 设备是一种利用化学反应将化学物质以气相沉积到固体表面上的过程。首先，将反应气体或蒸气供给到装置内。这些气体大多数含有成膜和涂层所需的元素和化学物质。常见的反应气体包括金属有机化合物、氧气和氮气。
通常加热基板以加速反应气体与基板之间的化学反应。在加热的基板上，反应气体发生化学反应。这使得反应气体中的元素和化学物质沉积在基板表面上，从而可以生长薄膜。
薄膜沉积过程的控制在CVD设备中非常重要。通过调整沉积速率和加热温度等参数可以获得所需的薄膜特性。