爱安德介绍洁净化学实验室的定制
爱安德介绍洁净化学实验室的定制
半导体制程污染控制已成为一门学科，是制造半导体期间必须掌握的关键技术之一。无论是单晶制造还是工艺过程中人为掺杂，在引入有用杂质的同时也不可避免地引入一些其他有害的杂质，特别是金属杂质，这些金属杂质是以离子形式出现并且是移动的。当这些可移动的离子超过一定数量时，同样会引起期间的失效。因此，这些可移动的离子必须控制在一定范围内。
半导体化学实验室无论是监控Chemical还是DIW都会有Na元素，而Na也是最常见的可移动离子污染物,而且移动性最强，因此，对Na的控制也成为芯片生产的首要目标。可移动污染物问题特别是对MOS器件影响更为明显，因为MOS器件是表面电荷控制器件。
在器件生产过程中化学品的应用是不可避免的，有些化学品将导致晶片表面受到不必要的刻蚀，或者生成无法除去的化合物等，Cl就是其中之 一的污染物，所以，工艺过程中用到的化学品Cl的含量必须受到严格控制。洁净化学实验室通常是测试样品中金属离子、阴阳离子、颗粒物等痕量化学指标来达到生产过程监控的目的。
如果在设计时没有选用适当的材料，当新建实验室投入使用后，难免会发现K、Na、Ca等轻质量元素BEC比较高。
洁净化学实验室设计是一项复杂的系统工程，与其他洁净室不同，它所要求的不仅仅是颗粒物，同时还需要对有机污染物、金属污染等进行管控。需要根据客户不同的化学测试项目、所用到的仪器、实验室需达到的检出能力等进行多方面的综合设计进行定制，其设计规划主要有六个方面：平面设计系统、单台结构功能设计、供排水系统、电控系统、气体输送系统、有害气体输出系统。而很多材料实验室或刚转型的实验室在设计洁净化学实验室时候，由于经验不足，会选择一些仅做过生物洁净室的厂商来对实验室进行设计，而在完工验收时才发现，实验室由设计的正压实验室变成了实际的负压实验室。