• 爱安德SCT业务相关介绍

  爱安德SCT业务相关介绍1. 化学实验室设计整包服务（交钥匙工程）；2. 半导体专用PFA试剂瓶；3. 化学化验室专业设备定制（实验室级别纯水系统、纯水机、气体吸收箱、超净进样盒、通风柜、备件柜及实验室家具、专业洗瓶机、真空吸笔等）

  2024-08-08 webAdmin

• 爱安德SCT的立足点

  爱安德SCT的立足点SCT的立足点在现代半导体制造工艺中，清洗、离子注入和热处理、光刻、刻蚀、成膜（CVD、溅射工艺、电镀工艺、涂布工艺、High-k栅极堆叠工艺、Cu/Low-k工艺）、平坦化（CMP）这6个工艺会反复多次进行，也叫“循环工艺”。随着工序次数和环节的增加，每一个工序下都要进行严格质控，才能保证最终的良率。同时，半导体制造一大特点就是生产线的清洁度要求非常严格，通常需要至少AMC

  2024-08-08 webAdmin

• 爱安德讲解电子高纯气体分析

  爱安德讲解电子高纯气体分析电子高纯气体是半导体生产制造中不可或缺的关键性材料，同时也是集成电路制造中的第二大原材料，其占比仅次于硅片，占晶圆制造成本的14%。其在半导体产品制程工艺中广泛应用于各个半导体制造工艺中，气体的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，并从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性，对于半导体集成电路芯片的质量和性能具有重要意义。因此，对

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• 爱安德分析气体管路的金属离子污染对半导体制程的影响

  爱安德分析气体管路的金属离子污染对半导体制程的影响在半导体制程中，气体管路的质量对工艺的重要性非常高。半导体器件的制备需要在非常洁净的环境下进行，因为任何小的污染或杂质都可能导致器件失效或降低性能。因此，气体管路必须保持干净、纯净和无尘的状态，以确保半导体器件的质量和性能。1.损害半导体器件的性能：金属离子会与制程中的化学品发生反应，形成氧化产物、晶粒和缺陷等，进而降低半导体器件的性能和可靠性。例

  2024-08-08 webAdmin

• 爱安德分析蚀刻液中的混酸比例会影响蚀刻效果

  爱安德分析蚀刻液中的混酸比例会影响蚀刻效果蚀刻是一种在Wafer、半导体、PCB等制程中常见的一种程序，主要是要透过物理或是化学的方式将表面材料移除以达到设计上的需求，蚀刻技术可以分为『湿蚀刻』(wet etching)及『干蚀刻』(dry etching)两类。在湿蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，而干蚀刻通常是一种等离子蚀刻(plasma etching)，等离子蚀刻中的蚀刻

  2024-08-08 webAdmin

• 爱安德石墨金属元素含量分析

  爱安德石墨金属元素含量分析石墨是一种常见的碳材料，其在半导体工艺中有多种重要的应用，含有的金属杂质元素对于材料性能和应用具有重要影响。为了准确测定石墨固体中金属杂质元素的含量，常用的测试方法为GD-MS(辉光放电质谱)是利用辉光放电源作为离子源与质谱仪器联接进行质谱测定的一种分析方法。GD-MS被认为是目前对固体导电材料直接进行痕量及超痕量元素分析最有效的手段。但是由于GD-MS只是在样品的表面进

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• 半导体代工头部阵营格局仍相对稳定

  在诸多挑战当中，对于2nm/3nm工艺的竞逐或将成为未来三大半导体厂商面临的首个重大挑战。随着5G、云计算、大数据相关应用的带动，未来几年市场对高性能、低功耗芯片的需求将不断增长，也就更加需要先进工艺的支撑。2nm/3nm有可能成为三大半导体厂商在代工领域角力的一个“胜负手”。 按照规划，三星电子将于2022年上半年开始生产首批3nm芯片，第二代3nm芯片预计将于2023年开始生产，2025年推出

  2024-08-08 webAdmin

• 电子秤维修指引

  电子秤维修指引序言:电子衡器系带有电子装置的以数字显示的重量测量仪表。它是由:称重传感器，运算放大器，A/D转换集成电路，智能单片机，显示驱动和显示电路，键忠电路，多功能接口电路，交流/直流/充电/蓄电/稳压电路组成。各种故障的现条和根源千奇百怪。1 不归要(不回季，不称重)a检查传感器输出信号值是否于标准内。(AD的总放大码/使用内码范围/底码范围)b未在标准内，请参考第十项目作补偿。c如无法补

  2024-08-07 webAdmin