爱安德分享有关清洁设备的其他信息
2024-08-30 20:24:21
webAdmin
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清洗设备中使用的清洗剂
半导体清洗使用多种处理溶液。每种处理液能够去除的污垢类型不同。每次处理后用纯净水冲洗。
SPM
硫酸和过氧化氢的混合物，用于去除有机物。APM
氨和过氧化氢混合物可去除颗粒和有机物。此外，还添加超声波以提高颗粒去除率。使用DHF
氢氟酸和纯水的混合物去除金属和氧化膜。氢氟酸是强酸，可以溶解硅，因此用纯水稀释后仅用于处理晶圆表面。HPM
盐酸和过氧化氢的混合物可去除残留的金属和氧化物，并在表面形成钝化层，以防止污渍重新沉积。
最后，用纯水冲洗晶片并进行干燥处理。