爱安德介绍清洗设备结构
2024-08-30 20:23:47
webAdmin
爱安德介绍清洗设备结构
清洗设备的基本配置是输送系统、处理罐、纯水罐、干燥台。输送系统是将物体运入、运出，并对处理槽内的物体进行清洗的装置。纯水槽是冲走物体上附着的化学溶液的水槽，干燥台是干燥物体的装置。
一般来说，一种处理液只能清洗一种污渍，如果要清洗多种污渍，则需要多个处理池和纯水箱。半导体制造工艺使用批量式设备（一次处理多个晶圆）和单晶圆设备（一张接一张地处理晶圆）。
在批量方法中，晶圆被放置在称为载体的容器中，并且每个载体被放置在处理层中进行清洗。此外，单晶片方法在逐个旋转每个晶片的同时进行喷射清洗。