爱安德介绍什么是CVD设备？
2024-08-30 19:38:02
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爱安德介绍什么是CVD设备？
CVD（化学气相沉积）设备是用于生长薄膜和处理表面的设备。
CVD 是一种利用化学反应将化学物质以气相沉积到固体表面上的过程。 CVD 设备加热基材或基材并将气相反应气体或蒸气输送至其表面。基材上的反应物发生化学反应，形成薄膜或涂层。
该过程可以创建各种类型的薄膜和涂层。 CVD具有高度的可控性和再现性，使得生长高质量的薄膜成为可能。可以控制需要控制的性能，例如膜厚度、均匀性和结晶度。然而，许多使用的气体具有剧毒，必须小心处理。