爱安德介绍曝光设备的应用
2024-08-30 19:33:30
webAdmin
爱安德介绍曝光设备的应用
图1. TFT液晶显示器的TFT基板侧的制造流程概述
曝光设备主要用于半导体制造现场和液晶显示器等平板显示器（FPD）制造现场。
在半导体制造工艺中，以硅晶片为基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蚀剂（感光材料），并通过光掩模用从曝光装置发出的强紫外线照射涂敷表面。允许通过蚀刻等去除不需要的部分。这种使用曝光设备的方法称为光刻法。
在LCD制造过程中，一般采用玻璃基板，并重复金属薄膜沉积、光刻和蚀刻的多个循环。
可以在一个基板上形成像素电极和开关元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(红、绿和蓝)的滤色器。通过将两个基板粘合在一起并在其间放置液晶材料，就完成了用于 LCD 显示器的面板。
选择曝光设备时，需要在购买前与设备制造商充分讨论曝光所用光源的类型和精度、载物台的精度等，因为其价格非常昂贵。