UV臭氧清洗技术综上所述
2024-08-06 18:55:58
webAdmin
目前，等离子清洗和UV臭氧清洗技术被认为是具有代表性的干洗技术。等离子体众所周知，因为它在半导体制造过程中已经使用了很长时间。原来的等离子技术需要高质量的放电等离子体，因此使用减压气体的所谓低温等离子是主流，但随着等离子用途的增加，正在开发可在大气压下使用的等离子技术以满足客户的需求的需要而诞生。起初，UV臭氧技术仅使用低压汞灯，但在准分子激光器中，瑞士公司Braun Boverley（BBC）开发了现在的Xe准分子灯，现在它已经发展到可以发挥作用的地步。紫外线臭氧技术。利用UV臭氧和等离子的干洗技术不仅具有重整作用，而且已成长为提高尖端科技产品质量和良率不可或缺的技术。然而，由于缺乏信息，用户很难选择哪种技术适合他们的使用，包括成本。虽然比较四种技术的优缺点相当困难，但我们希望努力为用户提供信息，使他们能够准确地比较四种技术。
参考
1) 土桥义智，“关于氟碳替代清洗技术”，岛田梨香义步，1(1), 5 (1991)
2) 大场洋一，“玻璃表面设计、清洗和表面处理”，金代编辑社， Vol. 1 Edition, (1983) pp.76-139
3) JIS K 6768：塑料和片材的湿拉伸试验方法